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PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機是針對于高校,科學研究所和企業(yè)實驗室,或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺。針對用戶不同的需求,我們提供不同功能附件,在獲得常規(guī)性能的同時,擁有表面鍍膜(涂層),刻蝕,等離子化學反應(yīng),粉體等離子體處理等多種能力。
等離子刻蝕機(Plasma Etcher)是一種常用于微納米加工領(lǐng)域的設(shè)備,用于對半導(dǎo)體器件、光學元件、生物芯片等材料進行精細加工和圖案定義。其原理基于等離子體技術(shù),通過將氣體放電產(chǎn)生等離子體,利用等離子體中的離子和自由基對材料表面進行化學反應(yīng)和物理刻蝕。
ICP等離子刻蝕機WINETCH是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng),它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計與靈活的配置方案,獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小,專業(yè)的機械設(shè)計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全,且工藝穩(wěn)定重復(fù)性很好。
PLUTO-MH國產(chǎn)等離子刻蝕機設(shè)備是一種用于微納米加工的關(guān)鍵設(shè)備,主要用于半導(dǎo)體、光電子、納米材料等領(lǐng)域的微細加工和表面處理。等離子刻蝕技術(shù)是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵步驟,它在制備微電子器件、光電子器件、MEMS、太陽能電池等多種電子產(chǎn)品中發(fā)揮著重要作用。